射頻濺射對黄瓜视频污在线观看機處理產品有影響嗎？
文章導讀：對於容性耦合放電的真空（低壓）黄瓜视频污在线观看機而言，無論是直流輝光放電，還是交流高頻放電，工作氣氛隻要是惰性氣體，都會不可避免會產生濺射，對於普通產品或材料，微弱的濺射現象並不會影響基體的特性，但對於要求比較嚴格的產品，例如醫療器械，濺射現象越少越好。今天黄瓜视频下载APP视频來探討一下射頻濺射以及其黄瓜视频污在线观看機處理產品的影響。
1.射頻濺射的基本知識
黄瓜视频污在线观看機低壓狀態下射頻自偏壓在電極板周圍產生自偏壓鞘層，鞘層內的離子受自偏壓的驅動會加速向極板運動，從而對極板材料產生濺射。設從外部入射到固體表麵的粒子數為Nr，從固體表麵被濺射出來的離子數為Ns，則濺射率S用公式表示為：
S=Ns/Nr
即S為每個入射粒子所打出來的粒子數。濺射率隨著入射粒子的能量、種類以及固體的種類的狀態而變化。當轟擊固體表麵的離子能量增大時，濺射率將從某能量值急劇增大，這種離子能量稱為濺射閾值。
金屬的濺射閾值大約在10~30eV的範圍。離子能量增大到100eV之前，濺射率隨之增加，在很寬的範圍內，濺射率有極大值，然後就逐漸變小。例如對於300eV能量的Ar離子濺射Ti靶，其濺射效率為0.3，600eV能量的Ar濺射Ti靶效率為0.45，而對於300eV的氮離子注入Ti靶濺射效率比0.3小一點。當使用圓柱式射頻振蕩時，如果外電極接地，內電極上自偏壓相對於外電極顯負電性。內電極上自偏壓會在內電極周圍產生一個離子鞘，內電極材料被鞘內離子濺射。
為了增加RF濺射效率，一般在濺射靶材背麵加上磁鐵，稱為射頻磁控濺射。如圖1電子在由磁場的靶表麵回旋運動，靶表麵上的等離子體密度增大，放電阻抗低，因此可以獲得比普通極板RF濺射高10~100倍的濺射效率。在濺射的過程中，靶材通常溫度很高，所以需要有水冷。
當使用圓柱式電極RF濺射時，若在中心電極上實行濺射，可將中心電極做成中空細圓筒，在圓筒內加人磁鐵，實現中心電極磁控濺射。其結構如圖2所示
圖2 圓柱極板放電棒狀中心電極磁控示意圖
2.真空（低壓）黄瓜视频污在线观看機的電極結構
容性耦合的射頻真空（低壓）黄瓜视频污在线观看機，無論是多層電極，亦或雙層，基本上都采用鋁合金作為電極，主要是因為金屬鋁具有良好的散熱性能和對等離子體的耐候性，但是長期在等離子轟擊下，電極表麵仍然有鋁原子逃逸出來。多層電極如圖3所示
正是由於射頻濺射會轟擊出金屬粒子，這些金屬粒子會被附著在產品表麵，形成汙染，例如半導體引線框架，偶爾會發現金屬注入的現象，打線質量受到影響；再例如醫療用高分子材料表麵會殘餘金屬原子，對人身使用會存在隱患等等。
為避免或減少射頻濺射對產品的影響，黄瓜视频污在线观看機的腔體結構，電極板冷卻以及工藝參數的優化，都非常的重要，後續黄瓜视频下载APP视频將專門進行探討。圖4所示，電極板帶水冷的射頻真空（低壓）黄瓜视频污在线观看機放電狀態
黄瓜视频污在线观看機低壓狀態下射頻自偏壓在電極板周圍產生自偏壓鞘層，鞘層內的離子受自偏壓的驅動會加速向極板運動，從而對極板材料產生濺射。設從外部入射到固體表麵的粒子數為Nr，從固體表麵被濺射出來的離子數為Ns，則濺射率S用公式表示為：
S=Ns/Nr
即S為每個入射粒子所打出來的粒子數。濺射率隨著入射粒子的能量、種類以及固體的種類的狀態而變化。當轟擊固體表麵的離子能量增大時，濺射率將從某能量值急劇增大，這種離子能量稱為濺射閾值。
金屬的濺射閾值大約在10~30eV的範圍。離子能量增大到100eV之前，濺射率隨之增加，在很寬的範圍內，濺射率有極大值，然後就逐漸變小。例如對於300eV能量的Ar離子濺射Ti靶，其濺射效率為0.3，600eV能量的Ar濺射Ti靶效率為0.45，而對於300eV的氮離子注入Ti靶濺射效率比0.3小一點。當使用圓柱式射頻振蕩時，如果外電極接地，內電極上自偏壓相對於外電極顯負電性。內電極上自偏壓會在內電極周圍產生一個離子鞘，內電極材料被鞘內離子濺射。
為了增加RF濺射效率，一般在濺射靶材背麵加上磁鐵，稱為射頻磁控濺射。如圖1電子在由磁場的靶表麵回旋運動，靶表麵上的等離子體密度增大，放電阻抗低，因此可以獲得比普通極板RF濺射高10~100倍的濺射效率。在濺射的過程中，靶材通常溫度很高，所以需要有水冷。
圖1 磁控靶表麵磁場分布及電子運動狀態
當使用圓柱式電極RF濺射時，若在中心電極上實行濺射，可將中心電極做成中空細圓筒，在圓筒內加人磁鐵，實現中心電極磁控濺射。其結構如圖2所示
圖2 圓柱極板放電棒狀中心電極磁控示意圖
容性耦合的射頻真空（低壓）黄瓜视频污在线观看機，無論是多層電極，亦或雙層，基本上都采用鋁合金作為電極，主要是因為金屬鋁具有良好的散熱性能和對等離子體的耐候性，但是長期在等離子轟擊下，電極表麵仍然有鋁原子逃逸出來。多層電極如圖3所示
圖3 真空（低壓）黄瓜视频污在线观看機多層水平電極
3.射頻濺射對處理產品的影響正是由於射頻濺射會轟擊出金屬粒子，這些金屬粒子會被附著在產品表麵，形成汙染，例如半導體引線框架，偶爾會發現金屬注入的現象，打線質量受到影響；再例如醫療用高分子材料表麵會殘餘金屬原子，對人身使用會存在隱患等等。
為避免或減少射頻濺射對產品的影響，黄瓜视频污在线观看機的腔體結構，電極板冷卻以及工藝參數的優化，都非常的重要，後續黄瓜视频下载APP视频將專門進行探討。圖4所示，電極板帶水冷的射頻真空（低壓）黄瓜视频污在线观看機放電狀態
圖4 射頻真空（低壓）黄瓜视频污在线观看機處理醫療導管的放電狀態
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