用於半導體封裝的黄瓜视频污在线观看設備主要由哪些部分組成？
文章導讀：黄瓜视频污在线观看設備有多種叫法，例如黄瓜视频污在线观看機、黄瓜视频污污污在线观看設備、低溫等離子處理設備、黄瓜视频污污污在线观看係統、電漿機、Plasma cleaner等，半導體封裝用到的黄瓜视频污在线观看設備是什麽樣的呢？
按照等離子體產生的機製業界一般分為常壓（大氣）黄瓜视频污在线观看設備和低壓（真空）黄瓜视频污在线观看設備，半導體封裝行業用到的黄瓜视频污在线观看設備屬於後者。黄瓜视频污在线观看設備主要由以下幾部分組成：
1、真空腔體：帶有各種結構的放電電極，使得反應氣體激發生成等離子體，形成不同狀態、不同特性和密度的等離子體
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2、等離子發生器：含電源和匹配器，提供反應氣體放電能量來源，維持等離子體放電狀態；有不同的頻率區分。
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3、真空泵：抽取真空，保持真空度，抽走未電離的工藝氣體和反應副產物；包括單級泵和泵組。
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4、真空計：監測真空腔體的真空度。
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5、流量計：測量反應氣體的流量。
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6、反應氣體：各種工藝氣體，如Ar、H2、N2、O2、CF4等，根據需要使用單一氣體或者兩種以上的混合氣體。
7、電氣控製：含軟件，保證設備運行、監測、數據采集和工藝參數設定等。
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